● news.bsdnet.hu

A The Information riportja szerint megkezdődött Kínában a hazai fejlesztésű immerziós DUV litográfiai berendezések korlátozott gyártása. A sanghaji SMEE idén öt rendszert szállíthat majd le az SMIC, a CXMT és a Hua Hong számára, 2027-ben pedig mintegy húsz gép készül a hazai piacra. Ez a mennyiség egyébként nem sok, mivel az ASML csak tavaly 131 darab DUV rendszert biztosított, viszont ezek az apró lépések az önellátás felé viszik a kínai félvezetőipart. Fontos, hogy egyelőre nem ismert a szóban forgó gépek teljesítménye, illetve az is kérdés, hogy képesek lesznek-e helytállni az SMIC 5 nm-es gyártástechnológiájával, vagy csak a kevésbé fejlett node-okon vethetők be. Mindezek mellett kiemelendő, hogy a fejlesztés így sem teljesen kínai, mivel még mindig tartalmaz Japánból importált, lényegében kulcsfontosságú alkatrészeket.