Nem várható egyhamar saját EUV-s berendezés Kínától
Prohardver
2026-09-03 16:50
A Bloomberg friss riportja arról ír, hogy az UBS szerint Kína a következő tíz évben várhatóan nem lesz képes előállítani saját fejlesztésű, EUV litográfiát alkalmazó berendezést. Az említett svájci befektetési bank ezt a szabadalmi aktivitás alapján állítja, és úgy gondolják, hogy a kínai fejlesztések nagyjából azon a szinten állhatnak, ahol az ASML volt 2004-ben.
A kevésbé modern DUV technológia területén kedvezőbb a helyzet, mivel az UBS úgy véli, hogy 2-5 év kellhet ahhoz, hogy Kína versenyképes megoldást alkosson. Itt az SMEE és a Yuliangsheng fejlesztéseit érdemes figyelemmel követni, ugyanakkor a kínai chipgyártók várhatóan továbbra is vásárolnak majd DUV litográfiát alkalmazó ASML gépeket. Ez azzal magyarázható, hogy a kihozatali arány, illetve a gyártókapacitás között jelentős eltérések lehetnek majd a hazai és az ASML DUV berendezéseinek összehasonlításában.